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ZnO-Bi2O3基壓敏電阻器研究進(jìn)展

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  • 更新日期:2021-01-11 10:11
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詳細(xì)介紹
ZnO-Bi2O3基壓敏電阻器具有優(yōu)異的壓敏性能,是目前研究最多的壓敏電阻體系,廣泛應(yīng)用在電路的過(guò)壓保護(hù)和浪涌電流吸收方面。

氧化鋅(ZnO)晶體室溫下的禁帶寬度為3.37eV[1],是一種非化學(xué)計(jì)量比化合物,其主要點(diǎn)缺陷是間隙Zn離子,間隙Zn離子電離后能給導(dǎo)帶提供自由電子,所以,ZnO晶體是一種典型的n型半導(dǎo)體。ZnO因具有特殊的電學(xué)、光學(xué)等性能,在壓電、氣敏、催化、透明導(dǎo)電薄膜等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用[2-4]。ZnO壓敏電阻器是一種以ZnO為主體,摻雜多種金屬氧化物改性的多晶半導(dǎo)體,由于ZnO壓敏電阻具有非線性系數(shù)高、浪涌吸收能力強(qiáng)、性能穩(wěn)定、制備工藝簡(jiǎn)單等諸多突出優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于電力、交通、通訊、儀表、家電等各個(gè)行業(yè)作為浪涌吸收、過(guò)壓保護(hù)、過(guò)電壓抑制和穩(wěn)電壓等器件[5-10]。衡量ZnO壓敏電阻性能的主要參數(shù)包括非線性系數(shù)a、壓敏電壓E1mA和漏電流IL等,a值越大壓敏電阻對(duì)浪涌的反應(yīng)速度越快,合適的E1mA可以有效控制壓敏電阻的閾值電壓,IL值越小則壓敏電阻在工作過(guò)程中的熱損耗越低。避雷器是ZnO在電力系統(tǒng)內(nèi)外部高壓防護(hù)中應(yīng)用的主要產(chǎn)品形式,高電壓梯度,大通流容量,低殘壓比和優(yōu)異的老化性能,不僅能減小避雷器本身的體積和重量,降低被保護(hù)設(shè)備的絕緣水平和造價(jià),而且還能為電力設(shè)備提供更加安全可靠的防護(hù)[11-15]。

以氧化鋅為基體的壓敏電阻中,ZnO-Bi2O3基壓敏電阻是研究最早,也是目前研究最多的壓敏電阻體系,已廣泛應(yīng)用在電力系統(tǒng)和電子集成電路的過(guò)壓保護(hù)、雷電和浪涌電流的防護(hù)中。其中低壓ZnO-Bi2O3基壓敏電阻可廣泛應(yīng)用于汽車(chē)工業(yè)、通訊設(shè)備、鐵路信號(hào)、微型電機(jī)及各種電子器件的保護(hù),市場(chǎng)前景非常廣闊。該體系主要是以ZnO為主,以氧化鉍(Bi2O3)、氧化銻(Sb2O3)、氧化鈷(Co2O3)、氧化錳(MnO2)、氧化鉻(Cr2O3)等為基本添加物,摻雜其他氧化物添加劑以便得到不同性能的壓敏電阻。從微觀結(jié)構(gòu)上看,ZnO構(gòu)成主晶相,以10-20mm大小晶粒存在,富Bi2O3相構(gòu)成晶界層,連續(xù)分布在晶粒周?chē)渌趸锿瑫r(shí)分布在晶界和晶粒中[16-18]。

其中,Bi2O3是最核心的添加劑,熔點(diǎn)較低,主要存在于晶界處構(gòu)成絕緣晶界層,起到提高晶界勢(shì)壘并提升其非線性的目的[19],參與反應(yīng)形成焦綠石(Zn2Bi3Sb3O14)和尖晶石相(Zn7Sb2O12),阻止晶粒異型長(zhǎng)大,在高溫時(shí)形成富鉍液相Bi2O3(Sb,Zn),可以傳遞氧離子,并滲透到附近的氧化銻和氧化鋅[20];Sb2O3主要以尖晶石的形式,可以減小Bi2O3的揮發(fā),提高非線性和穩(wěn)定性;Co2O3和Cr2O3的加入能形成氧空位并聚集于晶界,從而提高晶界勢(shì)壘高度并減小漏電流;摻雜SiO2能在基體中引入玻璃相,抑制晶粒生長(zhǎng),有效提高電位梯度[15]。綜上可知,選擇合適的摻雜氧化物,合理優(yōu)化配比,控制摻雜成分在主體材料中的分布,是進(jìn)一步提高ZnO-Bi2O3基壓敏電阻綜合性能的關(guān)鍵。通過(guò)添加各種金屬氧化物提高ZnO壓敏電阻器的綜合電學(xué)性能,具有重要的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)意義。本文從摻雜改性和制備工藝兩方面對(duì)ZnO-Bi2O3基壓敏電阻器的研究進(jìn)展進(jìn)行了綜述。

 

 

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