free性欧美人与牛,国产又粗又硬又大爽黄老大爷视 ,国产成人人妻精品一区二区三区 ,√天堂8资源中文,国产亚洲精品一区二区三区

嗶哥嗶特商務(wù)網(wǎng)旗下:
當(dāng)前位置: 首頁(yè) » 下載 » »

磁控濺射原理及工藝

PDF文檔
  • 文件類型:PDF文檔
  • 更新日期:2024-04-16 14:49
  • 瀏覽次數(shù):4996
  • 下載次數(shù):2
  • 進(jìn)入下載
廣告
詳細(xì)介紹
磁控濺射利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù),在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來(lái)的磁控濺射鍍膜的原理及相應(yīng)工藝的研究。

磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

二極濺射設(shè)備

 

 

詳細(xì)內(nèi)容請(qǐng)查看附件

 
[ 打印本文 ]  [ 關(guān)閉窗口 ]

 
推薦下載
下載排行
瀏覽排行
粵B2-20030274號(hào)   Copyright Big-Bit ? 2019-2029 All Right Reserved 大比特資訊 版權(quán)所有     未經(jīng)本網(wǎng)站書(shū)面特別授權(quán),請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載或建立影像,違者依法追究相關(guān)法律責(zé)任