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芯片危機讓全世界都遭遇著芯片緊缺的難題，這讓許多國家都意識到自主研發(fā)芯片的必要性，已經(jīng)有條不紊地開展芯片產(chǎn)品研發(fā)工作中。在我國，在芯片層面遭遇的情況也是十分明顯的，美國對華為公布的禁令讓華為公司在半導(dǎo)體行業(yè)遭受了嚴重的阻攔。

據(jù)了解，全世界要建19座芯片加工廠，在其中16座芯片加工廠要建在中國。如今距離芯片禁令過去一年了，中國的半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)因為禁令發(fā)生了天翻地覆的轉(zhuǎn)變，如今在我國早已逐漸完成自主研發(fā)芯片及創(chuàng)作的機遇，更何況，自主化已經(jīng)成了一種時尚流行。

如今，中國芯片行業(yè)未來發(fā)展的情況便是在與外國差距方面，我國進到半導(dǎo)體芯片行業(yè)的時間還是比較短的，而海外許多國家早在十多年前就早已在芯片方面展開了探討，因此我們在芯片研發(fā)和制造工藝技術(shù)等方面，時間及構(gòu)思都略微差了別的國家一段時間，可是大家沒有為灰心喪氣，現(xiàn)在已經(jīng)在追逐之間的差別。

大家都知道，芯片在生產(chǎn)過程選用的的超純水品質(zhì)優(yōu)劣可以直接危害芯片的制造品質(zhì)。要想追逐與海外的差別，這也是很重要的一個技術(shù)階段，假如能提升超純水的品質(zhì)，堅信在我國芯片生產(chǎn)制造可能邁上一個新的階梯。芯片生產(chǎn)制造常用超純水應(yīng)合乎美國ASTM D5127電子器件及半導(dǎo)體業(yè)用純凈水水體TypeE-1.2，高于中國國家電子器件級超純水規(guī)范GBT11446.1-1997EW-Ⅰ規(guī)范。

傳統(tǒng)式的超純水制取加工工藝既消耗財力又消耗人力，早已不適合用目前的超純水生產(chǎn)制造。萊特萊德通過數(shù)年實踐活動，選用反滲透水凈化設(shè)備與電去離子(EDI)機器設(shè)備及打磨拋光混床緊密結(jié)合的方法來取得超純水，可將水里的介電質(zhì)差不多徹底除去，又將水里不離解的膠體溶液化學(xué)物質(zhì)，氣體及物質(zhì)均除去至很低水平。萊特萊德技術(shù)專業(yè)的超純水機器設(shè)備致力于電子器件超純水行業(yè)，終將發(fā)光發(fā)熱。

在我國，半導(dǎo)體芯片行業(yè)的發(fā)展趨勢是不言而喻的，我們所取得的進步也已經(jīng)被世界所認同，期待在我國再也不依賴進口芯片而被別的國家制約。將來中國半導(dǎo)體芯片行業(yè)的進步速度將令人無法想象。