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端子接觸點(diǎn)鍍薄金——是技術(shù)反思的時(shí)候
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端子接觸點(diǎn)鍍薄金——是技術(shù)反思的時(shí)候

2019-11-07 10:51:00 來源:連接器世界網(wǎng) 作者:翻譯:蔡友華 點(diǎn)擊:4685

隨著經(jīng)濟(jì)發(fā)展的全球化,產(chǎn)品市場競爭日趨激烈,電子連接器行業(yè)也不例外。為了在市場競爭中脫穎而出,連接器制造商降低了端子接觸點(diǎn)的金鍍層厚度,以達(dá)到客戶的需求。金鍍層厚度的降低涉及到所有計(jì)算機(jī)行業(yè)以及電信行業(yè)、工控設(shè)備、消費(fèi)性電子產(chǎn)品等。

為了理解當(dāng)中的意義,了解其過去的歷史十分重要。從上世紀(jì)60年代末到70年代初,50μ英寸厚度的金鍍層覆蓋在鎳鍍層上是很常用的,電信行業(yè)甚至采用100μ英寸厚度的金鍍層。由于70年代初黃金的價(jià)格不斷上漲,降低金鍍層厚度的壓力變得越來越大。同時(shí)隨著私營企業(yè)成為連接器市場的主力軍,這種壓力在持續(xù)增加。終端客戶和連接器公司都進(jìn)行了大量研究,以確定多少的金鍍層厚度才能夠保證功能正常和符合技術(shù)要求。盡管進(jìn)行這些研究很費(fèi)時(shí),但可以全面且長時(shí)間地暴露在環(huán)境中。在這個(gè)研究過程中,終端客戶與制造商共同合作和數(shù)據(jù)分享。在此基礎(chǔ)上,共同建立了30μ英寸厚度的金鍍層的新標(biāo)準(zhǔn)。與此同時(shí),隨著電鍍技術(shù)不斷進(jìn)步,選擇性局部電鍍和連續(xù)性電鍍技術(shù)也越來越成熟。在往后的20年里,一直到90年代早期到中期,30μ英寸厚度的金鍍層作為工業(yè)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。在此期間,大量數(shù)據(jù)(包括實(shí)際數(shù)據(jù)和實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù))和經(jīng)驗(yàn)積累驗(yàn)證了這變更的可行性。

與此同時(shí),隨著新市場和新環(huán)境的到來,以及微電路和芯片技術(shù)不斷發(fā)展,電子產(chǎn)品的應(yīng)用范圍日益廣泛,尤其是在最近5年,而且這種趨勢還將持續(xù)到不久的將來。最近,在一股新的利益驅(qū)使下,將金鍍層厚度低于30μ英寸級(jí)別的降低到2~3μ英寸厚度。這一做法沒有在金鍍層厚度要求30μ英寸以上的級(jí)別執(zhí)行?;旧希@種做法是配合市場的需求而沒有技術(shù)支持的情況下決定的,在某種情況下這是不負(fù)責(zé)任的。經(jīng)常聽到制造商的評(píng)論:“這樣做是為了提高價(jià)格競爭力,此外,我們沒有收到任何不良報(bào)告”。

薄金的定義被認(rèn)為金鍍層厚度小于10μ英寸的黃金電鍍層。為弄清楚這樣的鍍金層結(jié)構(gòu)到底是超級(jí)節(jié)省成本還是埋下了定時(shí)炸彈,有必要重新研究常見的接觸系統(tǒng)失效機(jī)理,例如:

a)腐蝕、邊緣蠕變和孔隙腐蝕;

b)由熱或振動(dòng)引起的微動(dòng)腐蝕;

c)擴(kuò)散、遷移;

d)干濕氧化機(jī)理。

以上根據(jù)時(shí)間依賴機(jī)制,實(shí)際應(yīng)用中可能在幾周到幾年內(nèi)才會(huì)發(fā)生。失效發(fā)生決定于應(yīng)用場合和環(huán)境的污染程度。這里的原因很復(fù)雜,與連接器設(shè)計(jì)要求也有很大的關(guān)系,例如:

a)正向力;

b)耐久等級(jí)要求(磨損);

c)端子數(shù)量(是40針的還是400針的連接器);

d)電氣要求(傳輸電源、信號(hào)、高速率信號(hào)等);

e)連接器環(huán)境是否屏蔽;

f)端子接觸界面結(jié)構(gòu);

g)刮擦;

h)壽命終止考量。

在過去的3到5年里,有報(bào)道稱接觸點(diǎn)使用薄金鍍層的問題越來越多。這導(dǎo)致重新評(píng)估這樣的鍍金層結(jié)構(gòu)的必要性。除了一兩項(xiàng)在研究外,其他的研究還沒有全面性地展開,但已經(jīng)針對(duì)到具體的問題。以下這些研究抽樣結(jié)果說明了問題的重點(diǎn)所在。閱讀全文請(qǐng)點(diǎn)擊:https://image1.big-bit.com/2019/1107/20191107105945688.pdf

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