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北京時(shí)間10月15日(周二)晚間22點(diǎn)左右，ASML提前在官網(wǎng)公布了第三季度財(cái)報(bào)，原定于周三的發(fā)布日程，因?yàn)榧夹g(shù)故障提前公布。

財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)公布后，全球光刻機(jī)巨頭股價(jià)暴跌16%，引起整個(gè)半導(dǎo)體板塊和美股市場(chǎng)走弱等連鎖反應(yīng)。

圖源：包圖網(wǎng)

引起股價(jià)暴跌的原因有兩點(diǎn)：第一，Q3訂單數(shù)據(jù)為26億歐元，僅為市場(chǎng)預(yù)期53.9億歐元的一半;第二，ASML官方將2025年凈銷售額預(yù)期從之前的400億歐元下調(diào)至300億歐元至350億歐元之間。

據(jù)ASML Q3財(cái)報(bào)顯示：目前中國(guó)仍然是ASML的最大單一市場(chǎng)，占第三季度銷售額的47%，達(dá)27.9億歐元。

事實(shí)上，從2023年第三季度荷蘭出口政策收緊以來，中國(guó)仍然連續(xù)五個(gè)季度成為ASML最大的市場(chǎng)，占比均達(dá)到40%以上。

訂單數(shù)據(jù)持續(xù)收緊，對(duì)華制裁的力度不減，ASML如今后悔了嗎?

整體市場(chǎng)疲軟，AI需求有限

根據(jù)SEMI公布的數(shù)據(jù)顯示，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模平穩(wěn)增長(zhǎng)，2023年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為1063億美元，其中光刻機(jī)市場(chǎng)占比約為25%，規(guī)模達(dá)到約258.4億美元，2023年為271.3億美元。

ASML作為光刻機(jī)領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，其股價(jià)的崩盤不僅震驚了整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)，也引發(fā)了市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)整體復(fù)蘇進(jìn)程的擔(dān)憂。

圖源：包圖網(wǎng)

近年來，隨著AI技術(shù)的不斷發(fā)展崛起，高性能芯片的需求急劇上升直接推動(dòng)了對(duì)高端光刻機(jī)的需求。ASML的高端光刻機(jī)正是滿足這一市場(chǎng)需求的關(guān)鍵設(shè)備，目前來說，AI的發(fā)展的確為ASML帶來了更多的市場(chǎng)機(jī)會(huì)和訂單，但是整體市場(chǎng)的情況不容樂觀。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官克里斯托弗·富凱(Christophe Fouquet)也坦言：“盡管AI領(lǐng)域仍有強(qiáng)勁的發(fā)展和上升潛力，但目前其他市場(chǎng)領(lǐng)域的復(fù)蘇速度較慢?，F(xiàn)在看來，復(fù)蘇要比之前預(yù)期得要慢，這種情況預(yù)期將持續(xù)到2025年，這也會(huì)導(dǎo)致客戶變得更加謹(jǐn)慎。”

面對(duì)業(yè)績(jī)的下滑和股價(jià)的大幅波動(dòng)，ASML表示將繼續(xù)在產(chǎn)能爬坡和技術(shù)方面進(jìn)行持續(xù)投資，為周期的轉(zhuǎn)向做好準(zhǔn)備，ASML現(xiàn)在面臨的壓力實(shí)屬不小。

原因主要有三個(gè)方面：第一，由于美國(guó)和荷蘭相關(guān)出口限制措施，ASML在中國(guó)市場(chǎng)的增長(zhǎng)前景引發(fā)投資者擔(dān)憂;第二，全球芯片行業(yè)疲軟，ASML接到的訂單量大幅下降，遠(yuǎn)低于市場(chǎng)預(yù)期;第三，中國(guó)等市場(chǎng)的國(guó)產(chǎn)替代率得到提升，其高端光刻機(jī)在中國(guó)市場(chǎng)的銷售受到限制。

國(guó)產(chǎn)全流程替代加速，ASML市場(chǎng)吸引力漸減

中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)一直受國(guó)外制裁，如今國(guó)內(nèi)技術(shù)也得到了發(fā)展性的進(jìn)步——國(guó)產(chǎn)全流程替代，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)或者半導(dǎo)體行業(yè)自身有了更多的拓展空間。這一趨勢(shì)不僅展現(xiàn)了中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控能力的增強(qiáng)，也表示ASML在中國(guó)市場(chǎng)的吸引力逐漸減弱，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起鋪平了道路。

圖源：包圖網(wǎng)

在中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的上游領(lǐng)域，光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設(shè)備等關(guān)鍵領(lǐng)域正在逐步實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代。這些國(guó)產(chǎn)材料和設(shè)備不僅降低了光刻機(jī)的生產(chǎn)成本，還提高了整機(jī)的性能和穩(wěn)定性。

圖源：上海微電子(SMEE)官網(wǎng)

上海微電子作為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的領(lǐng)軍者，其SSA600/200工藝已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了90納米制程的量產(chǎn)，其出貨量已占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額超過80%，在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)中占據(jù)了十分重要的地位。

科益虹源、中科院上海、茂萊光學(xué)等企業(yè)也在DUV(深紫外光刻機(jī))、EUV(極紫外光刻機(jī))等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，眾多國(guó)內(nèi)企業(yè)紛紛致力實(shí)現(xiàn)技術(shù)推進(jìn)，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的進(jìn)一步發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

圖源：包圖網(wǎng)

今年9月份，國(guó)家工業(yè)和信息化部印發(fā)了《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》，其中有提到將推廣國(guó)產(chǎn)光源193nm、分辨率≤65nm、套刻≤8nm的光刻機(jī)。

這一官方文件的發(fā)布，標(biāo)志著我國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)研發(fā)方面取得了重要突破，并且得到了國(guó)家層面的認(rèn)可和推廣。

它們的問世，不僅能夠解決我國(guó)80%以上的芯片供應(yīng)問題，而且完全實(shí)現(xiàn)了100%國(guó)產(chǎn)化。并且，在全球頂級(jí)的EUV光刻機(jī)領(lǐng)域，我國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了物鏡系統(tǒng)和光源系統(tǒng)的國(guó)產(chǎn)替代。

總結(jié)

此次ASML面臨的股價(jià)崩盤和市場(chǎng)壓力反映了全球半導(dǎo)體行業(yè)的復(fù)雜性和不確定性。ASML此次股價(jià)崩盤還會(huì)在未來繼續(xù)面臨壓力，瑞銀(UBS)分析師稱：“阿斯麥明年可能失去近四分之一在華銷售額，若限制措施持續(xù)，其在華產(chǎn)生的整體收入中還有45%將面臨風(fēng)險(xiǎn)。”

中國(guó)市場(chǎng)目前仍是ASML最大的市場(chǎng)，若中國(guó)市場(chǎng)的份額發(fā)生變化，ASML的毛利率也將受到影響，進(jìn)而繼續(xù)影響相關(guān)收益。

中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展迭代得到發(fā)展和進(jìn)步，同時(shí)此次ASML股價(jià)崩盤更在持續(xù)提供一個(gè)更為明確的信息：核心技術(shù)始終是硬實(shí)力。

此次ASML的股價(jià)大崩盤也為中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的快速發(fā)展提供了新的視角，面對(duì)全球市場(chǎng)的變化，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展需要繼續(xù)不斷地加強(qiáng)自主競(jìng)爭(zhēng),提升國(guó)產(chǎn)替代率。