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摘要：  先進(jìn)半導(dǎo)體光刻及納米圖案成形系統(tǒng)與解決方案的市場(chǎng)與技術(shù)商 Molecular Imprints， Inc.(簡(jiǎn)稱 MII)今天宣布，該公司預(yù)定于本季度首先交付三套先進(jìn)壓印模塊，這些模塊將被整合進(jìn) MII 設(shè)備合作伙伴的光刻機(jī)系統(tǒng)中。模塊采用了 MII 專有的最新 Jet and Flash 壓印光刻 (J-FIL) 技術(shù)，這項(xiàng)技術(shù)具備大批量生產(chǎn)規(guī)格小于20納米的先進(jìn)半導(dǎo)體存儲(chǔ)設(shè)備所需的性能。

關(guān)鍵字：  壓印模塊，放大控制，

Molecular Imprints 首席執(zhí)行官 Mark Melliar Smith 表示：“我們最新交付的壓印模塊采用了增強(qiáng)型的放大控制和曝光技術(shù)，以及更好的機(jī)上光刻膠過濾、實(shí)時(shí)精密機(jī)器控制和升級(jí)版的光刻膠噴射注 系統(tǒng)，能夠大幅降低缺陷率、提高產(chǎn)量和覆蓋準(zhǔn)確度以及降低總擁有成本。在實(shí)現(xiàn)所有這些改進(jìn)的同時(shí)還可以降低系統(tǒng)平臺(tái)成本和減小產(chǎn)品尺寸。我要祝賀我們的開發(fā)和工程團(tuán)隊(duì)完成了又一項(xiàng)出色的產(chǎn)品設(shè)計(jì)和開發(fā)任務(wù)，并要感謝我們的設(shè)備合作伙伴給予的大力支持與協(xié)作。我們期待在今年晚些時(shí)候看到這些系統(tǒng)在我們半導(dǎo)體客戶的生產(chǎn)設(shè)備中發(fā)揮作用?！?/P>